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          PRODUCT CENTER

          產(chǎn)品中心

          當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心離子濃度計在線氟離子濃度分析儀水中氟離子濃度分析儀

          水中氟離子濃度分析儀
          產(chǎn)品簡介:

          水中氟離子濃度分析儀具有智能化集成功能,支持自動校準(zhǔn)、自動溫度補償(0~80℃),配備4~20mA/RS485輸出及報警繼電器,能聯(lián)動PLC系統(tǒng)實現(xiàn)加藥控制。

          產(chǎn)品型號:

          更新時間:2025-07-07

          廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

          訪問量:249

          服務(wù)熱線

          021-51096281

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          產(chǎn)品介紹

          儀器介紹

          上海玄天FT-7000型水中氟離子濃度分析儀基于氟離子選擇性電極(F? ISE)技術(shù),通過氟化鑭單晶膜對氟離子的特異性電位響應(yīng)實現(xiàn)實時氟離子濃度監(jiān)測,廣泛應(yīng)用于需要精準(zhǔn)控制氟離子含量的場景,可實時監(jiān)測工業(yè)廢水處理、環(huán)境監(jiān)測、飲用水等領(lǐng)域中氟離子的濃度。 

           

          技術(shù)特點

          集成溫度傳感器和測量參比電極,無需化學(xué)試劑即可完成測量;

          水中氟離子濃度分析儀具有響應(yīng)速度快的特點,響應(yīng)時間≤30秒;

          ?在同一屏幕上顯示氟離子濃度值、溫度值、時間和狀態(tài)值;

          支持標(biāo)準(zhǔn)溶液或現(xiàn)場溶液自動校準(zhǔn),無需預(yù)處理樣品,適合連續(xù)在線監(jiān)測;

          隔離的4~20mA電流輸出,通訊接口可選擇RS-485,便于接入PLC/DCS控制系統(tǒng)。

           

          技術(shù)指標(biāo)

          產(chǎn)品型號: FT-7000

          測量范圍: 0-10000mg/L(可定制)

          檢測下限: 0.01mg/L

          顯示方式: LCD背光顯示,耐溫至80℃不變黑

          精 確  度: ±5%FS

          壓力范圍: ≤0.1Mpa

          溫度范圍: 0~80℃

          外殼材質(zhì): 塑殼

          校準(zhǔn)方式: 標(biāo)液校準(zhǔn)、現(xiàn)場校準(zhǔn)

          電 纜  線: 標(biāo)配5m(可延長)

          繼 電  器: 3組繼電器

          電流輸出: 4~20mA電流輸出

          數(shù)字輸出: RS-485數(shù)字通訊

          供電電源: AC220V/DC24V

          安裝方式: 浸入式/流通式/管道式

          防護等級: IP68

           

          典型應(yīng)用場景

          1,工業(yè)廢水

          可用于冶金、化工、磷肥廠、半導(dǎo)體工廠的廢水排放口實時監(jiān)測氟離子濃度,GB8978《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》要求氟化物排放濃度≤10mg/L(一級標(biāo)準(zhǔn)),通過在線監(jiān)測指導(dǎo)加藥(如氯化鈣生成 CaF?沉淀)或膜處理(如反滲透),確保氟離子達標(biāo)排放。

           

          2,冶金與金屬加工

          鋁電解行業(yè):冰晶石(Na?AlF?)熔鹽電解過程中,煙氣洗滌水中氟離子濃度可達500~1000 mg/L,需在線監(jiān)測以優(yōu)化中和處理(如投加石灰乳);

          鋼鐵表面處理:鍍鋅槽液、發(fā)黑液中的氟化物(如氟化鈉)濃度影響鍍層附著力,需控制在 5~20mg/L。

           

          3,半導(dǎo)體與電子工業(yè)

          可應(yīng)用于芯片蝕刻液(如含 HF 的刻蝕液)、清洗水系統(tǒng)中,實時監(jiān)測蝕刻液中氟離子濃度(通常10~50g/L),確保刻蝕速率穩(wěn)定;廢水處理后氟離子需≤1mg/L,避免污染地下水(半導(dǎo)體行業(yè)環(huán)保要求高于國標(biāo))。

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